Plateforme micro et nanotechnologies : masque de photolithographie. - SFO - La Société Française d'Optique Access content directly
Image Year : 2010

Plateforme micro et nanotechnologies : masque de photolithographie.

Abstract

Des motifs opaques ou transparents sont réalisés à partir d'une plaque couverte de chrome et de résine photosensible, par une écriture laser dans la résine puis, en développant la résine pour attaquer le chrome. La résolution maximale est de 0.8 µm. Ces masques sont utilisés pour mettre en forme les matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.

Dates and versions

sfo-00472562 , version 1 (12-04-2010)

Identifiers

  • HAL Id : sfo-00472562 , version 1

Cite

Emmanuel Perrin. Plateforme micro et nanotechnologies : masque de photolithographie.. 2010. ⟨sfo-00472562⟩
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