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Plateforme micro et nanotechnologies : masque de photolithographie.

2010-04-12

Description : Des motifs opaques ou transparents sont réalisés à partir d'une plaque couverte de chrome et de résine photosensible, par une écriture laser dans la résine puis, en développant la résine pour attaquer le chrome. La résolution maximale est de 0.8 µm. Ces masques sont utilisés pour mettre en forme les matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.


https://hal-sfo.ccsd.cnrs.fr/sfo-00472562
Contributor : Adèle Vanot <>
Submitted on : Monday, April 12, 2010 - 2:40:41 PM
Last modification on : Thursday, June 10, 2021 - 3:07:12 AM
Long-term archiving on: : Tuesday, September 14, 2010 - 6:14:53 PM