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Plateforme micro et nanotechnologies : masque de photolithographie.

2010-04-12

Description : Des motifs opaques ou transparents sont réalisés à partir d'une plaque couverte de chrome et de résine photosensible, par une écriture laser dans la résine puis, en développant la résine pour attaquer le chrome. La résolution maximale est de 0.8 µm. Ces masques sont utilisés pour mettre en forme les matériaux permettant la réalisation de composants microélectroniques, opto-électroniques et pour les micro et nanosystèmes.


https://hal-sfo.ccsd.cnrs.fr/sfo-00472562
Contributeur : Adèle Vanot <>
Soumis le : lundi 12 avril 2010 - 14:40:41
Dernière modification le : mardi 11 septembre 2018 - 15:18:15
Image archivée le : mardi 14 septembre 2010 - 18:14:53